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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
장웅기 (강원대학교) 전은채 (한국기계연구원) 최두선 (한국기계연구원) 김병희 (강원대학교) 서영호 (강원대학교)
저널정보
한국기계가공학회 한국기계가공학회지 한국기계가공학회지 제13권 제4호
발행연도
2014.8
수록면
13 - 20 (8page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2014

비이온계 계면활성제를 이용한 고순도 알루미늄 식각 특성
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초록· 키워드

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In this paper, the effects of a nonionic surfactant on the etch uniformity and the etch profile during the wet-etching process of high-purity aluminum were investigated for the fabrication of uniform micropattern arrays. To improve the surface roughness of a high-purity aluminum plate, a mechanical lapping process and an electrolytic polishing process were used. After electrolytic polishing process, the surface roughness, Ra, of the high-purity aluminum plate was improved from 1.25 ㎛ to 0.02 ㎛. A photoresist was used as an etching mask during the aluminum etching process, where the mixture of phosphoric acid, acetic acid, nitric acid, a nonionic surfactant and water was used as the aluminum etchant. Different amounts of the Triton X-100 nonionic surfactant were added to the aluminum etchant to investigate the effect of a nonionic surfactant during the wet-etching process of high-purity aluminum. The etch rate and the etch profile were measured by an optical interferometer and a scanning electron microscope.
#Nonionic surfactant(비이온계 계면활성제) #Wet etching(습식식각) #High purity aluminum(고순도 알루미늄) #Micropattern arrays(미세패턴 어레이)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 본론
3. 결론
REFERENCES

참고문헌 (16)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - Luo. X. / 2005 / Design of Ultraprecision Machine Tools with Applications to Manufacture of Miniature and Micro Components / J. Materials Processing Technology 167 (2-3) : 515 ~ 528 google schola 2. [학술지(정기간행물)] - 오정석 / 2014 / 초정밀 가공기의 개발 동향 및 기술적 이슈 / 한국정밀공학회지 31 (3) : 189 ~ 197 dbpia 3. [학술지(정기간행물)] - Mckeown. P. A. / 1987 / The Role of Precision Engineering in manufacturing of the Future / Ann. CIRP 36 : 495 ~ 501 google schola 4. [단행본] - Taniguchi. N. / 1996 / Nanotechnology / Oxford University Press google schola 5. [학술지(정기간행물)] - Xia. Y. / 1998 / Sofe Lithography / Angew. Chem. int. Ed. 37 : 550 ~ 575 google schola

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