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학술저널
저자정보
Seung Kyu Oh (Sunchon National University) Chi Gyun Song (Sunchon National University) Taehoon Jang (LG Electronics) Joon Seop Kwak (Sunchon National University)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.13 No.6
발행연도
2013.12
수록면
617 - 621 (5page)

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This study examined the effect of electronbeam (E-beam) irradiation on the electrical properties of n-GaN, AlGaN and AlGN/GaN structures on sapphire substrates. E-beam irradiation resulted in a significant decrease in the gate leakage current of the n-GaN, AlGaN and HEMT structure from 4.0×10<SUP>-4</SUP> A, 6.5×10<SUP>-5</SUP> A, 2.7×10<SUP>-8</SUP> A to 7.7×10<SUP>-5</SUP> A, 7.7×10<SUP>-6</SUP> A, 4.7×10<SUP>-9</SUP> A, respectively, at a drain voltage of -10V. Furthermore, we also investigated the effect of E-beam irradiation on the AlGaN surface in AlGaN/GaN heterostructure high electron mobility transistors(HEMTs). The results showed that the maximum drain current density of the AlGaN/GaN HEMTs with E-beam irradiation was greatly improved, when compared to that of the AlGaN/GaN HEMTs without E-beam irradiation. These results strongly suggest that E-beam irradiation is a promising method to reduce leakage current of AlGaN/GaN HEMTs on sapphire through the neutralization the trap.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. EXPERIMENTAL
III. RESULTS AND DISCUSSION
III. CONCLUSIONS
REFERENCES

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