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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2011.11
- 수록면
- 125 - 128 (4page)
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반도체 생산과정 중 Wafer 표면에 반도체 회로를 형성 시키는 Photo공정 에서는 PR(Photo Resist)의 반응을 막기 위해 노란색 빛의 형광등을 사용 한다. 하지만 설비 PM(Prevent maintenance) 및 각종 돌발 상황의 발생 시 사용 하게 되는 플래시라이트는 백색광의 LED를 사용하고 있어 Wafer 품질에 직간접적으로 많은 영향을 미치고 있는 실정이다. 이에 PR과 백색광원의 상관관계를 실험함으로써 생산현장에서 활용되는 광원이 양산에 사용되고 있는 PR에는 어떤 영향을 미치는지 기능별 PR을 분류하여 Test 하였고, 그 결과로 노출에 따른 Develop정도를 확인 해 볼 수 있었다. 아직도 현장에서는 긴급 상황 및 설비고장대응 등에 활용하기 위한 백색 Flash light를 많이 사용하고 있고, 이로 인해 제품의 수율 저하 및 불량 발생 등의 문제가 다발하고 있는 바, 적절한 Filter 개발을 통한 PR반응의 조기방지를 통한 품질안정을 위한 본 연구를 논문의 주제로 선정하게 되었다.
목차
요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 결론
참고문헌
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