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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2011.6
- 수록면
- 494 - 497 (4page)
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In this study, a high performance rotary magnet type magnetron source for roll-to-roll sputter system has been developed. We analyzed the density of magnetic field as a function of size variation of the maget which is in the center from the maget source. The target efficency showed the best result when the width of maget, 20mm, the edge width of maget, 10mm, and the gap of maget, 56 degree. On the basis of the result of maget array, depositon process was tested in order to make the 500 mm substrate magnetron source. The thickness of the film and uniformity of the sheet resistance was ±1.62, ±4.13%. and resistivity was 2.79× 10-3 Ω?㎝.
목차
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 마그네트론 소스의 자석 배열에 따른 자장 분포 해석
Ⅲ. Rotary magnet type 마그네트론 소스의 제작 및 특성
Ⅳ. 결론 및 향후 연구 방향
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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2015-560-001044519