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차세대 반도체 소자를 위한 배선 공정 개발 현황
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
초고집적 반도체 소자의 배선재료 기술과 경향
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
반도체 구리배선을 위한 Cu 도금층의 미세조직
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
시스템 반도체 소자 기술
전자공학회지
2015 .07
반도체소자의 Modeling 및 Computer Simulation에 대한 연구
대한전자공학회 심포지엄 논문집
1979 .01
도금기술 : 금 도금을 중심으로
한국표면공학회지
1985 .03
구리 및 은 금속 배선을 위한 전기화학적 공정
화학공학
2009 .01
구리 기반의 배선에서의 그래핀 활용 연구
한국재료학회 학술발표대회
2012 .01
통합 배선 시스템
전기의세계
1994 .10
배선 기술 동향
전자공학회지
2001 .08
[테마기획/반도체 패키지]반도체 소자의 배선 및 전자 패키지 연결부에서의 파손 해석
기계저널
2005 .06
차세대 반도체 소자 기술
전자공학회지
2015 .07
반도체 소자 제조 기술 동향
전자공학회지
2015 .01
Investigation of Copper Alloy Seed Layers for Copper-plated Silicon Heterojunction Solar Cells
한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집
2018 .11
전력용 반도체소자의 기술동향
전기의세계
1999 .10
신 전력반도체소자 기술동향
전기의세계
2002 .10
Si 기판상에 도금된 구리 박막의 이방성 에칭 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2017 .05
반도체 금속배선공정을 위한 저유전율 고분자 재료
고분자 과학과 기술
2003 .02
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