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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Yon-Sup Pang (MagnaChip Semiconductor) Youngju Kim (MagnaChip Semiconductor)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.13 No.1
발행연도
2013.2
수록면
65 - 70 (6page)

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A 0.18-μm 3.3 V grounded-gate NMOS (GGNMOS) I/O cell array for timing controller (TCON) application is proposed for improving electrical overstress (EOS) robustness. The improved cell array consists of 20 GGNMOS, 4 inserted well taps, 2 end-well taps and shallow trench isolation (STI). Technology computer-aided design (TCAD) simulation results show that the inserted well taps and extended drain contact gate spacing (DCGS) is effective in preventing EOS failure, e.g. local burnout. Thermodynamic models for device simulation enable us to obtain lattice temperature distributions inside the cells. The peak value of the maximum lattice temperature in the improved GGNMOS cell array is lower than that in a conventional GGNMOS cell array. The inserted well taps also improve the uniformity of turn-on of GGNMOS cells. EOS test results show the validity of the simulation results on improvement of EOS robustness of the new GGNMOS I/O cell array.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. DEVICE STRUCTURE AND TCAD SIMULATION
III. IMPROVED EOS ROBUSTNESS
IV. CONCLUSIONS
REFERENCES

참고문헌 (8)

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2014-569-000245302