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본 연구의 목적은 30 L의 촉매가 장착된 파일롯 규모의 반응 시스템에서 상업용 촉매(Co/ZrO₂-Al₂O₃)의 PFC 분해 성능을 검증하는 것이다. 공간 속도(GHSV) 1,800 h<SUP>-1</SUP>의 조건에서 SF<SUB>6</SUB>의 농도를 증가시키면 T<SUB>95</SUB>가 증가하였는데 SF<SUB>6</SUB>의 농도가 1,000~10,000 ppm일 때 T<SUB>95</SUB>가 580~610 ℃ 범위로 나타났으며, 열 소각을 했을 때의 T<SUB>95</SUB>인 1600 ℃보다 매우 낮은 온도임을 알 수 있다. 650 ℃의 반응 온도 하에서 72시간 동안에 99% 이상의 SF<SUB>6</SUB>의 전환율이 유지되어 촉매의 안정성이 확보되었다. 또한 SF<SUB>6</SUB> 전환율을 99% 이상 유지하기 위해서는 GHSV를 2,000 h<SUP>-1</SUP> 이하인 조건에서 운전해야 함을 알 수 있었다. CF₄의 분해 반응의 경우 T<SUB>95</SUB> 온도가 710 ℃이었으며, SF<SUB>6</SUB>의 T<SUB>95</SUB> 온도보다 높은 온도가 필요함을 알 수 있었다.
목차
요약
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌
참고문헌 (11)
참고문헌 신청
1. [보고서] - Park, Y. K. / 2004 / Waste Gas Treatment System for Semiconductor Process
2. [기타자료] - Choi, W. / 2003 / Composite Catalyst of Porous Alumina and Transition Metal for Perfluorocarbon Destruction and Process Fordestructing Perfluorocarbon Using the Same / Korea Patent Application No. 10-2003-0035665
3. [학술지(정기간행물)] - Brown, R. S. / 2001 / Catalytic Process for Control of PFC Emissions / Semiconductor International : 209 ~ 214
4. [기타자료] - Park, Y. K. / 2004 / Catalyst for Decomposition of Perfluoro-compound in Waste-gas and Method of Decomposition with Thereof / Korea Patent No. 10-0461758
5. [학술지(정기간행물)] - Sung-Han Han / 2011 / Large Scale Treatment of Perfluorocompounds Using a Thermal Plasma Scrubber / 청정기술 17 (3) : 250 ~ 258
2. [기타자료] - Choi, W. / 2003 / Composite Catalyst of Porous Alumina and Transition Metal for Perfluorocarbon Destruction and Process Fordestructing Perfluorocarbon Using the Same / Korea Patent Application No. 10-2003-0035665
3. [학술지(정기간행물)] - Brown, R. S. / 2001 / Catalytic Process for Control of PFC Emissions / Semiconductor International : 209 ~ 214
4. [기타자료] - Park, Y. K. / 2004 / Catalyst for Decomposition of Perfluoro-compound in Waste-gas and Method of Decomposition with Thereof / Korea Patent No. 10-0461758
5. [학술지(정기간행물)] - Sung-Han Han / 2011 / Large Scale Treatment of Perfluorocompounds Using a Thermal Plasma Scrubber / 청정기술 17 (3) : 250 ~ 258
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