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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2011.11
- 수록면
- 40 - 44 (5page)
이용수
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Recent studies in crystalline silicon solar cell fabrication have been focused on high efficiency and low cost. However, the rising of the cost results in additional processes to approach high efficiency. The fabrication process also becomes complicated with additional technologies. In thispaper, we studied the selective emitter formation with phosphorous paste to improve the conversion efficiency. Selective emitter formations like two-step diffusion or etch-back method require at least one more step compared in the conventional line since heavily and lightly doped area was needed to form separately.However,one-step diffusion process is the method diffusing heavily and lightly doped area at the same time only with additional screen-printing step. This study lays the foundation for the simple way to form the selective emitter.
목차
Abstract
기호설명
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌
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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2013-563-001382631