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학술저널
저자정보
최기봉 (한국기계연구원) 이재종 (한국기계연구원) 김기홍 (한국기계연구원) 임형준 (한국기계연구원)
저널정보
한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국생산제조시스템학회지 Vol.20 No.6
발행연도
2011.12
수록면
756 - 760 (5page)

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This paper proposed an alignment stage driven by piezo actuators for alignment process of a contact-type lithography. Among contact-type lithography processes, an UV-curable nanoimprint process is an unique process to be able to align patterns on upper and lower layers. An alignment stage of the UV-curable nanoimprint process requires nano-level resolution as well as high stiffness to overcome friction force due to contact moving. In this paper, the alignment stage consists of a compliant mechanism using flexure hinges, piezo actuators for high force generation, and capacitive sensors for high-resolution measurement. The compliant mechanism is implemented by four prismatic-prismatic compliant chains for two degree-of-freedom translations. The compliant mechanism is composed of flexure hinges with high stiffness, and it is directly actuated by the piezo actuators which increases the stiffness of the mechanism, also. The performance of the ultra-precision stage is demonstrated by experiments.
#Alignment stage(정렬 스테이지) #Contact-type lithography(접촉식 리소그라피) #Compliant mechanism(탄성 기구) #Piezo actuator(압전 구동기) #Flexure hinge(탄성힌지)

목차

Abstract
1. 서론
2. 정렬용 압전구동 스테이지의 구조
3. 압전구동 스테이지의 설계 및 해석
4. 실험
5. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (9)

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1. [학술지(정기간행물)] - Dauksher, W. J. / 2006 / Nano-imprint Lithography: Templates, Imprinting and Wafer Pattern Transfer / Microelectronic Engineering 83 (4) : 929 ~ 932 google schola 2. [단행본] - Sreenivasan, S. V. / 2011 / Status of UV Imprint Lighography for Nanoscale Manufacturing, In Comprehensive Nanoscience and Technology, Chap. 4.04 : 83 ~ 116 google schola 5. [단행본] - Physik Instrumente GmbH / 2007 / The World of Micro and Nanopositioning, Physik Instrumente Catalogue google schola 6. [학술지(정기간행물)] - Choi, K. -B. / 2007 / Optimal Design of a Compliant Mechanism with Circular Notch Flexure Hinges / J. of Mechanical Engineering Science 221 (C3) : 385 ~ 392 google schola 7. [학술지(정기간행물)] - Kim, D. / 2007 / A new nano-accuracy AFM system for minimizing Abbe errors and the evaluation of its measuring uncertainty / ULTRAMICROSCOPY 107(4-5) (4) : 322 ~ 328 google schola

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