메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류
인문학
인문학 일반 역사학 철학 종교학 어문학 기타 인문학
사회과학
사회과학 일반 경영학 관광학 교육학 군사학 문헌정보학 법학 사회학 신문방송학 심리과학 정치외교학 지리학 행정학 경제학 무역학 인류학 기타 사회과학
자연과학
자연과학 일반 물리학 생물학 생활과학 수학·통계학 천문학 지구과학 화학 기타 자연과학
공학
공학 일반 건축공학 기계공학 산업공학 재료·에너지공학 전기전자공학 조선해양공학 화학공학 컴퓨터학 기타공학
의약학
의학 일반 간호학 수의학 약학 한의학 기초의학 임상의학 기타 의약학
농수해양학
농수해양학 일반 농학 수산학 식품과학 임학 축산학 해상운송학 기타 농수해양학
예술체육학
예술 일반 디자인 미술 미용 사진 음악학 의상 체육 공연매체예술 기타 예술체육학
복합학
학제간연구 과학기술학 뇌인지과학 기술정책 기타 복합학

ENG

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
이정민 (조선대학교) 김선호 (조선대학교) 김택현 (조선대학교) 박정우 (조선대학교)
저널정보
한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국생산제조시스템학회지 Vol.20 No.4
발행연도
2011.8
수록면
395 - 400 (6page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

이 논문의 연구 히스토리 (2)

2011

비접촉 SPL기법을 이용한 단결정 실리콘 웨이퍼 표면의 극초단파 펄스 전기화학 초정밀 나노가공
이정민 ,  김선호 ,  김택현 외 1명 한국생산제조학회지 2011.08 학술저널
비접촉 SPL기법을 이용한 단결정 실리콘 웨이퍼 표면의 극초단파 펄스 전기화학 초정밀 나노가공
이정민 ,  김선호 ,  박정우 한국생산제조학회 학술발표대회 논문집 2011.04 학술대회자료

초록· 키워드

오류제보하기
Scanning Probe Lithography is a method to localized oxidation on single crystal silicon wafer surface. This study demonstrates nanometer scale non contact lithography process on (100) silicon (p-type) wafer surface using AFM(Atomic force microscope) apparatuses and pulse controlling methods. AFM-based experimental apparatuses are connected the DC pulse generator that supplies ultra short pulses between conductive tip and single crystal silicon wafer surface maintaining constant humidity during processes. Then ultra short pulse durations are controlled according to various experimental conditions. Non contact lithography of using ultra short pulse induces electrochemical reaction between micro-scale tip and silicon wafer surface. Various growths of oxides can be created by ultra short pulse non contact lithography modification according to various pulse durations and applied constant humidity environment.
#Atomic force microscope(원자현미경) #Oxidation(산화) #Silicon oxide(실리콘 산화물) #Electrochemical process(전기화학적 공정) #Pulse(펄스)

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험과정
3. 실험결과
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (7)

참고문헌 신청
2. [학술지(정기간행물)] - Rousseaux, F. / 1994 / X-ray lithography: an overview and recent activities at super-ACO / Journal de Physique IV 4 (C9) : 237 ~ 244 google schola 4. [단행본] - Bonnell, D. A. / 2001 / Scanning Probe Microscopy and Spectroscopy: Theory, Techniques, and Applications 1st ed / Wiley-VCH google schola 5. [학술지(정기간행물)] - Stephan, K. / 2003 / Scanning Probe Lithography using Self Assembled Monolayers / American Chemical Society 103 (11) : 4367 ~ 4418 google schola 6. [학술지(정기간행물)] - Calleja, M. / 1999 / Nanometrescale Oxidation of Silicon Surfaces by Dynamic Force Microscopy: Reproducibility, Kinetics and Nanofabrication / Nanotechnology 10 (1) : 34 ~ 38 google schola 7. [학술지(정기간행물)] - Park, J. W. / 2004 / Tribonanolithography of Silicon in Aqueous Solution based on Atomic Force Microscopy / Applied hysics Letters 85 (10) : 1766 ~ 1768 google schola

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

내압을 받는 탄소섬유 복합재 압력용기의 기계적 거동
김민식 ,  윤성호 한국추진공학회 학술대회논문집 2013 .12
유리섬유로 보강된 수지에서 제품설계 및 성형조건에 따른 휨의 연구 : Part 2. 결정성 수지
류민영 ,  이민 ,  김혁 폴리머 2012 .11
유리섬유로 보강된 수지에서 제품설계 및 성형조건에 따른 휨의 연구 : Part 1. 비결정성 수지
이민 ,  김혁 ,  류민영 폴리머 2012 .09
사출성형 해석을 통한 Weldline 및 Flow mark 개선사례
이영창 Journal of the Korean Society for Precision Engineering 2013 .12
설계영역 반복축소법에 의한 사출금형의 수지 유동균형을 위한 게이트 위치 최적화
박종천 ,  이규석 ,  최성일 외 1명 한국기계가공학회지 2013 .08

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2013-552-000272839