Downstream 誘導形 반응기의 제작 및 CF₄/O₂ 플라즈마를 이용한 a-Si:H의 식각

박상준 ,  강석진 ,  최시영

대한전자공학회 학술대회

1992 .06

플라즈마를 이용한 GaAs 반응성 이온 식각

이성현 ,  노호섭 ,  최경훈 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  김말문 외 1명

전자공학회논문지

1987 .01

플라즈마트론 방식의 이온건의 특성 연구

최성창 ,  한재길 ,  석진우 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2008 .06

플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  남기수 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

수소 생성을 위한 플라즈마트론 개발

김성천 ,  전영남

대한환경공학회지

2006 .01

하이브리드 모델을 이용한 플라즈마 식각 공정에서의 식각종료점 검출

김승균 ,  홍상진 ,  한승수

대한전자공학회 학술대회

2011 .06

플라즈마트론을 이용한 바이오가스 개질로부터 수소생산

김성천 ,  전영남

화학공학

2006 .01

H₂O 플라즈마를 이용한 폐유 재활용 연구

채재우 ,  알렉산더 크낙 ,  기호범

한국에너지학회 학술발표회

2005 .11

고밀도 플라즈마를 이용한 contact hole 식각에서 공정 변수에 따른 식각 특성

김관하 ,  김창일

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .07

박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구

박정은 ,  홍혜권 ,  조영호 외 2명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2018 .11

N2H2-H2O용액의 { 100 } Si에 대한 최적식각조건의 설정과 전기화학적 식각에의 응용 ( Establishment of Optimal { 100 } Si Etching Condition for N2H4-H2O Solutions and Application to Electrochemical Etching )

주병권 ,  이윤희 ,  김형곤 외 1명

전자공학회논문지

1989 .11

WAFER와 전극 사이의 GAP이 식각 특성에 미치는 영향 ( Effects of a Gap Between a Wafer and an Electrode on Etch Characteristics )

김근태 ,  성노영 ,  윤용혁 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1992 .11

MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화

민철홍 ,  김태선 ,  강경우

전기전자재료학회논문지

2012 .01

Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성

이원규

화학공학

2009 .01

신경회로망 모델을 이용한 플라즈마 식각공정의 최적 공정 운영

고택범 ,  차상엽 ,  하대원 외 2명

제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집

1994 .10

신경회로망 모델을 이용한 플라즈마 식각공정의 최적 공정 운영 ( Optimal operation of plasma etching process utilizing neural network )

유정식 ,  고택범 ,  차상엽 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01