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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2010.11
- 수록면
- 68 - 70 (3page)
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Different from conventional PVD and CVD process, Combustion Chemical Vapor Deposition (CCVD) is environmental friendly vapor deposition process based on atmospheric pressure with thermal energy from combustion. CCVD equipment is consisted of reservoir of hydrocarbon fuel and precursor, gas mixing burner, sample carrier and control system. The combustion energy from gas mixture of hydrocarbon, propane and precursor, HMDSO(Hexamethyldisiloxane) saturated air generates chemical reaction of pyrolysis and oxidation of precursor to form silicon oxide layer on the steel substrate. Because of hydroxide in dense silicon oxide layer, even though its thickness is j ... 전체 초록 보기
목차
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
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