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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
신정호 (부산대학교) 최광수 (부산대학교) 왕계민 (부산대학교) 김광호
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제43권 제6호
발행연도
2010.12
수록면
266 - 271 (6page)

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Ternary Mo-Cu-N films were deposited on Si wafer substrates with various copper contents by magnetron sputtering method using Mo target and Cu target in Ar/N₂ gaseous atmosphere. As increasing N₂ pressure, the microstructure of Mo-N films changed from γ-Mo₂N of (111) having face-centered-cubic (FCC) structure to δ-MoN of (200) having hexagonal structure. Detailed the microstructures of the Mo-Cu-N coatings were studied by X-ray diffraction, scanning electron microscopy and field emission transmission electron microscope. The results indicated that the incorporation of copper into the growing Mo-N coating led to the Mo₂N and MoN crystallites were more well-distributed and refined and the copper existed in grain boundary. Ternary Mo-Cu-N films had a composite microstructure of the nanosized crystal crystalline γ-Mo₂N and δ-MoN surrounded by amorphous Cu₃N phase.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실헙방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (28)

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2012-581-003774160