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저자정보
송종한 (한국세라믹기술원) 남중희 (한국세라믹기술원) 강대식 (한국세라믹기술원) 조정호 (한국세라믹기술원) 김병익 (한국세라믹기술원) 최덕균 (한양대학교) 전명표 (한국세라믹기술원)
저널정보
한국자기학회 한국자기학회지 한국자기학회지 제20권 제6호
발행연도
2010.12
수록면
222 - 227 (6page)

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RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 Pt/Ti/SiO₂/Si(100) 기판위에 BiFeO₃ 박막을 증착하였고, 스퍼터링 공정에서 산소량이 BiFeO₃ 박막에 미치는 영향을 조사하였다. BiFeO₃ 박막은 XRD 회절패턴의 결과를 통하여 소량의 불순물상이 존재하는 페로브스카이트 구조로 결정화되었다. O₂ 가스의 유량은 박막의 미세구조 및 자기적 특성에 많은 영향을 끼친다. O₂ 가스의 유량이 증가함에 따라 박막의 표면 거칠기 및 grain size가 증가하였다. BiFeO₃ 박막은 상온에서 약자성적인 거동을 보였으며, PFM 측정을 통하여 박막의 미세구조와 압전계수와의 상관관계를 조사하였다.
#Multiferroic BiFeO₃ thin films #RF magnetron sputtering #M-H hysteresis loop

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과 및 논의
Ⅳ. 결론
참고문헌

참고문헌 (15)

참고문헌 신청
W. Eerenstein / 2006 / Nature 442(17):759 google schola C. Binek / 2005 / J. Phys 17:39 google schola M. Bibes / 2008 / Nature Materials 7:425 google schola A. Palewicz / 2006 / Solid State Commun 140:359 google schola M. M. Kumar / 2000 / Appl. Phys. Lett 76:19 google schola

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