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Heat Treatment Effects of Staggered Tunnel Barrier (Si3N4 / HfAlO) for Non-volatile Memory Application
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .08
차세대 비휘발성 메모리 적용을 위한 Staggered Tunnel Barrier (Si3N4/ZrO2, Si3N4/HfAlO)에 대한전기적 특성 평가
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .08
Si₃N₄/HfAlO 터널 절연막을 이용한 나노 부유 커패시터의 전기적 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
Staggered Tunnel Barrier engineered Memory
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
Thermal Treatment Effects of Staggered Tunnel Barrier(Si3N4/Ta2O5) for Non Volatile Memory Applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
Electrical Properties of Al2O3/SiO2 and HfAlO/SiO2 Double Layer with Various Heat Treatment Temperatures for Tunnel Barrier Engineered Memory Applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
Etching characteristics of HfAlO₃ thin films with addition N₂ gas using adaptively coupled plasma system
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Tunnel barrier engineered 메모리 적용을 위한 터널링 절연막의 전기적 특성 및 계면 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Electric structure and thermal stability of HfO₂ - Al₂O₃ (HfAlO) film for gate insulator
한국진공학회 학술발표회초록집
2005 .02
V3Si 나노입자 메모리소자의 열적안정성 및 전하누설 근원분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
차세대 비휘발성 메모리를 위한 TBE (Tunnel Barrier Engineered) 절연막의 전기적 특성 비교
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
V3Si 나노 구조체를 이용한 메모리 소자의 전기적 특성연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
In-situ magnetization measurements and ex-situ morphological analysis of electrodeposited cobalt onto chemical vapor deposition graphene/SiO<sub>2</sub>/Si
Carbon letters
2017 .01
Effects of Tunnel Barrier Roughness on Magnetoresistance of Magnetic Tunnel Junctions
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2005 .06
텅스텐 이황화물 나노복합체 기반 비휘발성 메모리 소자의 전자수송 메커니즘
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Effect of barrier materials on the properties of magnetic tunnel junctions
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2002 .12
A Theoretical Study of an Amorphous Aluminium Oxide Layer Used as a Tunnel Barrier in a Magnetic Tunnel Junction
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2007 .05
SOLUTION OF ELLIPTIC EQUATIONS ON A SPHERE USING DOUBLE FOURIER SERIES ON STAGGERED GRIDS
한국기상학회 학술대회 논문집
1998 .10
CVD - W/p - Si0.83Ge0.17 / Si(001)의 전기적 및 계면적 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .07
Characteristics of HfO2-Al2O3 Gate insulator films for thin Film Transistors by Pulsed Laser Deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
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