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저자정보
윤재성 (한국기계연구원) 장성환 (한국기계연구원) 유영은 (한국기계연구원) 최두선 (한국기계연구원)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2010년도 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2010.11
수록면
4,294 - 4,297 (4page)

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There have been a lot of studies on surface wrinkles in micro or nano scale because they have significant potential for future applications, which may be micro/nano fluidic devices, enhancement of mechanical properties for functional surfaces, advanced optical devices, and so on. In this study, surface wrinkles have been made on the photoresist layer (SU-8) during post-exposure-baking (PEB). The wrinkles seem to be quite arbitrary or random, but dimensions such as pitch and height are determined so that the photoresist surface can have minimum residual stress. Experiments have been conducted by overheating the photoresist on silicon substrates after exposure to UV light, which is believed to increase the residual stress. Results show that the wrinkling features can be controlled by a simple process condition, which is the baking temperature.
#Wrinkle(주름) #Micro pattern(마이크로 패턴) #MEMS(초미세 기전시스템) #Micro channel(마이크로 채널) #Silicon substrate(실리콘 기판)

목차

Abstract
1. 서론
2. 공정개요 및 실험방법
3. 결과 및 토의
4. 결론
후기
참고문헌

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2012-550-003944849