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저널정보
대한전기학회 정보 및 제어 논문집 2006 정보 및 제어 심포지엄 논문집
발행연도
2006.4
수록면
135 - 137 (3page)

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To improve device yield and throughput. faults in plasma processing equipment should be quickly and accurately diagnosed. Despite many useful information of ex-situ sensor measurements. their applications to recognize plasma faultshave not been investigated. In this study, a new technique to identify fault causes by recognizing X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) using neural network and continuous wavelet transformation (CWT). The presente ... 전체 초록 보기
#Plasma Fault #X-ray Photoelectron Spectroscopy #Wavelet #Neural Network

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
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