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논문 기본 정보

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학술대회자료
저자정보
안병준 (건국대학교) 한경준 (건국대학교) 고성림
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2009년도 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2009.11
수록면
3,110 - 3,115 (6page)

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R2R process has two different direction which called cross machine direction(CMD) and machine direction(MD). The distortion of the printed pattern becomes more severe following CMD than MD. It is because that the patterns along CMD are influenced more easily by tension and the pressure of roll than that along MD. One interesting fact here is that the patterns along CMD which are distorted more severely show better electrical performance. Generally, it has various directions of pattern in case of printed circuit such as thin film transistor(TFT). Also, some devices include the intersections of lines which are expected to show different performance according to the geometry of the intersection. Consequently, we need research about an intersection line for performance enhancement of more complex printed circuit. In this paper, we analyze the variation of distortion and electric performance according to pattern geometry variation to find a optimal condition for the performance of patterns.

목차

Abstract
1. 서론
2. 인쇄 실험
3. 실험 결과 분석
4. 결론
후기
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