공기오염과 음(-)이온

지철근

조명·전기설비

2005 .06

“음(-)이온” 특집에 즈음하여

지철근

조명·전기설비

2005 .06

이온주입 특성 개선을 위한 분자동역학적 연구

양영준 ,  이치우

에너지공학

2009 .06

이온가속주입에 따른 알루미늄의 표면에너지 특성 변화 관찰

김기욱 ,  김용환 ,  정지환

대한기계학회 춘추학술대회

2014 .11

분자 동역학을 이용한 점 결함 및 극 저 에너지 실리콘 이온 주입에 관한 연구 ( A Study on the Silicon Point Defects and Ultra-Low Energy Si Ion Implantation using Classical Molecular Dynamics )

Jeong Won Kang ,  Myung Sik Son ,  Ki Ryang Byun 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .07

분자 동역학을 이용한 점 결함 및 극 저 에너지 실리콘 이온 주입에 관한 연구

Jeong-Won Kang ,  Myung-Sik Son ,  Ki-Ryang Byun 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .06

소형 플라즈마 이온 주입 장치에 의한 표면개질

왕덕현

한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집

2013 .05

이온 주입 기술 현황

김종국 ,  이구현 ,  이상로

기계와 재료

2001 .01

배치타입 이온주입 장비에서 3 가지 각도변수의 적절한 선택으로 웨이퍼 내의 이온주입 입사각 편차를 최소화 하는 방법

이승희 ,  김승철 ,  장원배 외 2명

대한기계학회 춘추학술대회

2011 .11

해석모델을 이용한 3차원 이온주입 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Ion Implantation Simulator Using Analytical Model )

박화식 ,  이준하 ,  황호정

전자공학회논문지-A

1993 .12

낮은 에너지로 실리콘에 이온 주입된 분포와 열처리된 인듐의 거동에 관한 시뮬레이션과 모델링

정원채

전기전자재료학회논문지

2016 .01

B+ 및 BF2+ 가 이온 주입된 실리콘 웨이퍼의 Annealing 효과 ( Annealing Effect ofr the B+- and BF2+- Implanted Silicon Wafers )

권상직 ,  권오준 ,  정호선

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

특집 : 재료의 플라즈마 표면처리 기술 ; 플라즈마 이온주입 ( Plasma Source Ion Implantation )

전중환

대한용접·접합학회지

1999 .02

연속 이온 주입 공정 모델링 및 시뮬레이션 ( Modeling and Simulation of Multiple Implantation Process )

손명식 ,  박수현 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1998 .11

연속 이온 주입 공정 모델링 및 시뮬레이션

손명식 ,  박수현 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1998 .11

실리콘 웨이퍼의 두께 및 군굴절률의 동시 측정 기술

진종한 ,  맹새롬 ,  박정재 외 2명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2013 .10

플라즈마 이온주입에서 쉬스 동역학에 관한 연구

김광훈 ,  조주현 ,  최영욱 외 4명

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .07

실리콘 웨이퍼 연삭가공 특성 평가에 관한 연구

이상직 ,  정해도 ,  이은상 외 1명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

1999 .05

이온주입에 의한 다결정 실리콘의 고유저항 모델링 ( The Resistivity Modeling of Ion Implanted Polycrystalline Silicon )

박종태 ,  이문기 ,  김봉렬

전자공학회논문지

1986 .05

집속이온빔(Focused Ion Beam)을 이용한 3차원 나노가공

박철우 ,  이종항

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2004 .05