지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 대한전기학회 Journal of Electrical Engineering & Technology Journal of Electrical Engineering & Technology Vol.1 No.1
- 발행연도
- 2006.3
- 수록면
- 110 - 113 (4page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
A high rate deposition sputtering process of magnesium oxide thin film in oxide mode has been developed using a 20 ㎾ unipolar pulsed power supply. The power supply was operated at a maximum constant voltage of 500 V and a constant current of 40 A. The pulse repetition rate and the duty were changed in the ranges of 10~50 ㎑ and 10~60%, respectively. The deposition rate increased with rising incident power to the target. Maximum incident power to the magnesiwn target was obtained by the control of frequency, duty and current. The deposition rate of a moving state was 9 ㎚ m/min at the average power of 1.5 ㎾. This result shows higher deposition rate than any other previous work involving reactive sputtering in oxide mode. The thickness uniformities over the entire substrate area of 982 ㎜×563 ㎜ were observed at the processing pressure of 2.8~9.5 mTorr. The thickness distribution was improved at lower pressure. This technique is proposed for application to a high through-put sputtering system for plasma display panels.
목차
Abstract
1. Introduction
2. Sputtering Equipment
3. Experiment
4. Results and discussion
5. Conclusion
Acknowledgements
References
참고문헌 (1)
참고문헌 신청
함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
Plasma Display Panel용 산화마그네슘 박막의 산화영역에서의 스퍼터 성막기술
대한전기학회 학술대회 논문집
2004 .07
-
Sputtering of Magnesium Oxide this film for Plasma Display Panel Application
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .07
-
RF reactive magnetron sputtering으로 제조한 TiO 박막의 구조 및 광학적 특성
한국재료학회지
2002 .01
-
Influence of sputtering parameter on the properties of silver-doped zinc oxide sputtered films
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .10
-
Plasma Display Panel 기술의 개관 ( Plasma Display Panel Overview of Technology )
대한전자공학회 학술대회
1995 .07
-
Plasma Display Panel Overview of Technology
대한전자공학회 학술대회
1995 .06
-
Magnesium Thin Films Possessing New Corrosion Resistance by RF Magnetron Sputtering Method
Corrosion Science and Technology
2004 .01
-
Split sputter mode: a novel sputtering method for flat-panel display manufacturing
Journal of information display
2011 .01
-
PDP(Plasma Display Panel)의 원리 및 기술동향
조명·전기설비
1988 .12
-
플라스틱 기판에 증착한 ZnO:Al 박막의 특성에 미치는 스퍼터 압력 효과
전기전자재료학회논문지
2009 .01
-
The Role of Energetic Particle Bombardment in Deposition of Thin Film Oxide Phosphors by Sputtering
한국재료학회 학술발표대회
2006 .01
-
Plasma Display
대한전자공학회 세미나
1996 .01
-
R.F Sputtering 법으로 증착한 ITO 박막의 미세구조와 전기ㆍ광학적 특성
한국표면공학회지
2005 .08
-
Plasma Display Panel의 현재와 미래
전자공학회지
2001 .04
-
Plasma Display Panel 제조장치 기술 동향
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
-
Effects of Sputter Parameters on Electrochromic Properties of Tungsten Oxide Thin Films Grown by RF Sputtering
한국재료학회지
2011 .01
-
스퍼터 증착된 Zinc Tin Oxide 박막 트랜지스터의 공정 압력에 따른 특성 연구
반도체디스플레이기술학회지
2014 .01
-
The Study of Etching Properties of Magnesium Oxide Layer on Az31 Magnesium Alloy Surface
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
-
Plasma Display Panel ( PDP )
전자공학회지
1997 .12
-
Display Panel 두께 측정시스템 개발
대한전기학회 학술대회 논문집
2013 .10
이 논문의 저자 정보
이 논문과 함께 이용한 논문
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-560-019027767