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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제39권 제1호
발행연도
2006.2
수록면
1 - 8 (8page)

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In this study, effect of sputtering after plasma nitriding and before PVD coating on the microstucture, microhardness, surface roughness and the adhesion strength of CrN thin films were investigated. Experimental results showed that this sputtering process not only removed surface compound layer which formed during a plasma nitriding process but also induced an alteration of the surface of plasma nitrided substrate in terms of microhardness distribution and surface roughness, which in turn affected the adhesion strength of PVD coatings. After sputtering, microhardness distribution showed general decrease and the surface roughness became increased slightly. The critical shear stress measured from the scratch test on the CrN coatings showed an approximately twice increase in the binding strength through the sputtering prior to the coating and this could be attributed to a complete removal of compound layer from the plasma nitrided surface and to an increase in the surface roughness after sputtering.
#Duplex surface treatment #Plasma nitriding #PVD coating #Adhesion strength #CrN thin film

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌

참고문헌 (1)

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[학술지(정기간행물)] - / 1996 / Plasma/Ion Nitride Treatment Dangoon google schola

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