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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
Korean Society for Precision Engineering International Journal of Precision Engineering and Manufacturing International Journal of Precision Engineering and Manufacturing Vol.9 No.2
발행연도
2008.4
수록면
39 - 43 (5page)

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Atmospheric pressure plasma polishing (APPP) is a noncontact precision machining technology that uses low temperature plasma chemical reactions to perform atom-scale material removal. APPP is a complicated process, which is affected by many factors. Through a preliminary theoretical analysis and simulation, we confirmed that some of the key factors are the radio frequency (RF) power, the working distance, and the gas ratio. We studied the influence of the RF power and gas ratio on the removal rate using atomic emission spectroscopy, and determined the removal profiles in actual operation using a commercial form talysurf. The experimental results agreed closely with the theoretical simulations and confirmed the effect of the working distance. Finally, we determined the element compositions of the machined surfaces under different gas ratios using X-ray photoelectron spectroscopy to study the influence of the gas ratio in more detail. We achieved a surface roughness of Ra 0.6 ㎚ on silicon wafers with a peak removal rate of approximately 32 ㎣/min.
#Atmospheric pressure plasma #Capacitance coupling #Impacting factor #Polishing #Ultrasmooth surface

목차

1. Introduction
2. Simulation and Analysis
3. Experiments
4. Results and Discussion
5. Conclusions
ACKNOWLEDGEMENT
REFERENCES

참고문헌 (18)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - Li, B. G / 2006 / Machining Technology of Super Smooth Surface / Manufacturing Technology & Machine Tools (6) : 60 ~ 66 google schola 2. [학술지(정기간행물)] - N.Alagumurthi / 2007 / Cylindrical Grinding - A Review on Surface Integrity / International Journal of Precision Engineering and Manufacturing 8 (3) : 24 ~ 44 google schola 3. [학술지(정기간행물)] - Zhang, H / 2003 / Ultra-precision Machining Technology of Optical Surfaces / Optical Instruments 25 (3) : 47 ~ 51 google schola 4. [학술지(정기간행물)] - Zhao, G. X / 2001 / Discussion on the Principle of Ion Beam Removal Machining / EDM and Mould 1 : 26 ~ 28 google schola 5. [학술지(정기간행물)] - Detrick, M. S / 2003 / Control of Polishing of Diamond Films Using Microactuation and an Atmospheric Pressure Plasma / IEEE/ASME Transactions on Mechatronics 8 (1) : 45 ~ google schola

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