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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- Korean Society for Precision Engineering International Journal of Precision Engineering and Manufacturing International Journal of Precision Engineering and Manufacturing Vol.9 No.1
- 발행연도
- 2008.1
- 수록면
- 12 - 18 (7page)
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This paper describes two run-to-run controllers, a nonlinear multiple exponential-weight moving-average (NMEWMA) controller and a dynamic model-tuning minimum-variance (DMTMV) controller, for photolithography processes. The relationships between the input recipes (exposure dose and focus) and output variables (critical dimensions) were formed using an experimental design method, and the photolithography process model was built using a multiple regression analysis, Both the NMEWMA and DMTMV controllers could update the process model and obtain the optimal recipes for the next run Quantified improvements were obtained from simulations and real photolithography processes.
목차
1. Introduction
2. Experimental Design
3. NMEWMA Controller
4. DMTMV Controller
5. Simulated and Experimental Results
6. Conclusions
ACKNOWLEDGMENT
REFERENCES
참고문헌 (16)
참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - Crisalle, O. D / 1991 / Adaptive Control of Photolithography / Proceedings of the SPIE 1464 : 508 ~ 526
2. [학술지(정기간행물)] - Lachman-Shalem, S / 2002 / Nonlinear Modeling and Multivariate Control of Photolithography / IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 15 (3) : 310 ~ 322
3. [학술지(정기간행물)] - Grosman, B / 2005 / Yield Enhancement in Photolithography through Model-based Process Control: Average Mode Control / IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 18 (1) : 86 ~ 93
4. [학술지(정기간행물)] - Chemali, C. E / 2004 / Run-to-Run Critical Dimension and Sidewall Angle Lithography Control Using the PROLITH Simulator / IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 17 (3) : 388 ~ 401
5. [학술지(정기간행물)] - Yang, D. S / 2006 / Statistical Analysis of CD SEM Measurement and Process Control in the Indistinguishable Multi-Process Patterns / Proceedings of the SPIE 6152 : 880 ~ 886
2. [학술지(정기간행물)] - Lachman-Shalem, S / 2002 / Nonlinear Modeling and Multivariate Control of Photolithography / IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 15 (3) : 310 ~ 322
3. [학술지(정기간행물)] - Grosman, B / 2005 / Yield Enhancement in Photolithography through Model-based Process Control: Average Mode Control / IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 18 (1) : 86 ~ 93
4. [학술지(정기간행물)] - Chemali, C. E / 2004 / Run-to-Run Critical Dimension and Sidewall Angle Lithography Control Using the PROLITH Simulator / IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 17 (3) : 388 ~ 401
5. [학술지(정기간행물)] - Yang, D. S / 2006 / Statistical Analysis of CD SEM Measurement and Process Control in the Indistinguishable Multi-Process Patterns / Proceedings of the SPIE 6152 : 880 ~ 886
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