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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2006년도 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2006.11
수록면
7 - 12 (6page)

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Schemes for in-situ resonant frequency tuning of nano scale vibrating structures using Focused Ion Beam (FIB) sputtering and FIB-Chemical Vapor Deposition (CVD) are presented. This approach introduces precisely controlled permanent increase or decrease of resonant frequencies on processed nano structures, enabling the frequency adjustment when the desired resonant frequency is higher or lower than the actual frequency of the fabricated resonators. The vibration is induced by electrostatic force between resonator and stator using 0~10V AC input and all the processes including fabrication of nanostructure, electrostatic actuation, vibration observation and frequency tuning in either higher or lower direction were successfully conducted in single FIB chamber. The range of the frequency tuned from 600㎑ initial resonant frequency is +6㎑ with -1.9㎛ and -65㎑ with +1.1μm length change of the nano-resonator respectively. Structural FEM analysis result is compared with the experimental result
#Nano-resonator(나노 공진 장치) #Focused Ion Beam(집속 이온 빔) #Chemical Vapor Deposition(화학 기상 증착) #frequency tuning(주파수 튜닝)

목차

Abstract
1. 서론
2. 나노와이어 공진장치의 기본개념
3. 나노진동소자의 제작
4. 나노진동소자의 주파수 튜닝
5. 결론
6. 참고문헌

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