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저가의 소자 개발이 가능한 나노임프린팅 공정을 도입하여 510 ㎚ 주기의 브래그 격자 구조를 가지는 폴리머 광도파로 소자를 제작하였다. 폴리머 격자 광소자의 온도 의존성을 감소시키기 위한 방법으로 플라스틱 박막으로 이루어진 유연성 기판상에 브래그 격자를 제작하는 것이 필요하다. 임프린팅 공정을 손쉽게 수행하기 위한 광도파로 구조를 채택하였으며, 코아와 클래딩의 굴절률이 각각 1.540, 1.430인 폴리머를 이용하여 코아 두께가 3 ㎛인 단일모드 광도파로 구조를 얻을 수 있었다. 유연성 기판 브래그 격자 광도파로 소자의 특성을 Si기판 브래그 격자 광도파로 소자와 비교하여 관측한 결과, 유연성 기판 도입에 따른 브래그 반사 소자의 성능 저하는 나타나지 않았다.
목차
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 브래그 격자 광도파로 소자 설계
Ⅲ. 유연성 브래그 반사 광도파로 소자 제작 공정
Ⅳ. 유연성 기판 브래그 격자 소자의 특성 측정 결과
Ⅴ. 결론
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