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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.12
- 수록면
- 133 - 137 (5page)
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The magnetostatic properties of the as-deposited and annealed at T = 300 and 400 ℃ Ni films were investigated employing both magneto-optical magnetometer and VSM. The Ni films of 50~200 ㎚ thicknesses were prepared by DC magnetron sputtering technique. The strong influence of annealing temperature on magnetostatic properties of the studied samples was discovered. For the annealed Ni films, the increase of the coercivity H_C (up to 4 times) in comparison with that of as-deposited samples
목차
Abstract
1. Introduction
2. Experimental
3. Results and Discussion
4. Conclusion
Acknowledgements
References
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