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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국자기학회 한국자기학회지 한국자기학회지 제5권 제5호
발행연도
1995.10
수록면
623 - 626 (4page)

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High coercivity thin Fe₃O₄ and γ-Fe₂O₃ films were deposited on Si substrate under well controlled O₂ partial pressure by dc-reactive magnetron sputtering. The coercivity of as-deposited magnetite films is below 640 Oe. After oxidizing at 360℃ for 10 minutes, the films transform to maghemite γ-Fe₂O₃ completely, and the coercivity increases greatly to 2100 ~ 4120 Oe, depending on modification or not with minor addition of Co or/and Mn. The origin of coercivity enhancement is attributed mainly to magnetic anisotropy arisen from interfacial stress. The addition of 5 at% Co and 5 at% Mn greatly enhances coercivity and squareness ratio. These films are potential for ultra-high density recording applications.

목차

Abstract

Ⅰ. INTRODUCTION

Ⅱ. EXPERIMENTAL

Ⅲ. RESULTS AND DISCUSSION

Ⅳ. CONCLUDING REMARKS

ACKNOWLEDGMENTS

REFERENCES

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-428-015147958