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본 논문에서는 ITO 박막의 면저항과 투과율의 최적 상태를 얻기 위해 이온총에 주입된 Ar:O₂ 혼합비율과 이온빔 발산 각안으로 도입된 O₂에 따른 변화를 연구하였다. 기판은 이온빔 발산 각 외부에 위치시켰고, 박막은 상온에서 전자빔으로 증발시킨 ITO와 이온 mixing하여 제작하였다. XRD 측정 결과, 상온에서 제작된 ITO 박막은 모두 비정질이었다. 3×10^(-5) Torr의 산소 분위기에서 이온총에 주입된 Ar:O₂ 비율이 40:60일 때 85%로 가장 높은 투과율을 보였고, 1×10^(-5) Torr에서 Ar:O₂ 비율이 40:60일 때 132 Ω/□의 가장 낮은 면 저항을 보였다.
목차
국문초록
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과 및 논의
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌
Abstract
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