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논문 기본 정보

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학술저널
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저널정보
한국광학회 한국광학회지 한국광학회지 제4권 제3호
발행연도
1993.9
수록면
260 - 265 (6page)

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실시간 (in-situ) 스트레스측정 간섭계를 사용하여 이온보조증착에 의해 TiO₂ 박막이 성장되는 동안에 박막내부의 스트레스를 측정하였다. 박막두께에 따른 스트레스의 변화는 이온빔에 의한 압축스트레스와 표면온도에 의해 결정되는 표면확산의 평형에 의해서 정성적으로 설명되어지며, 측정결과는 스트레스가 성장되는 박막에 전달되는 이온빔의 운동량에 따라 증가한다는 Windischmann의 모델과 일치하였다.

목차

국문초록

Ⅰ. 서론

Ⅱ. 이론

Ⅲ. 실험

Ⅳ. 결과 및 분석

Ⅴ. 결론

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Abstract

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