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유도결합 플라즈마 분광기를 이용하여 반도체용 고순도 세금선 중의 도핑원소인 Ge, Be과 7개의 불순성분에 대한 정량법을 개발하였다. 높은 농도의 Au 메트릭스성분은 미량의 각분석선에 심각한 방해작용을 하며 기기의 측정조건을 불안정하게 하므로 Au 메트릭스에서 직접 분석하는 것은 곤란하다.
따라서 본 실험에서는 히드라진 하이드레이트를 이용하여 Au³+를 선택적으로 분리침전 시킨 뒤 수용액 상태에서 각 성분을 측정하였다. 게르마늄은 수소화물 발생장치를 이용해 1.0㎍/ℓ까지 정량하였으며, 베릴륨 및 기타 불순성분의 경우도 다중차넬 분광기를 이용해 동시 정량하였을 때 수용액 상태에서와 같은 낮은 검출하한을 얻을 수 있었다.
따라서 본 실험에서는 히드라진 하이드레이트를 이용하여 Au³+를 선택적으로 분리침전 시킨 뒤 수용액 상태에서 각 성분을 측정하였다. 게르마늄은 수소화물 발생장치를 이용해 1.0㎍/ℓ까지 정량하였으며, 베릴륨 및 기타 불순성분의 경우도 다중차넬 분광기를 이용해 동시 정량하였을 때 수용액 상태에서와 같은 낮은 검출하한을 얻을 수 있었다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 고찰
4. 결론
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