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본 연구에서는 황산을 이용하여 폐에나멜동선에서 에나멜의 효과적인 제거와 실험온도 80 ℃ 상에서 과산화수소와 질산을 사용하여 유기물질의 분해에 대하여 연구하였다.
무균조에 에나멜동선과 황산을 넣고 과산화수소, 질산을 첨가하였다. 동선의 표면 에나멜은 90% 황산에 분해되었으며, 이 용액은 35% 과산화수소 또는 60% HNO₃에 분해되었다. 과산화수소에서 과산화수소 황산의 H₂O와의 비는 적어도 8.8 : 1.0 이었다. 초기에 황산농도에서의 분해는 15분내에 이루어졌으며 박리시간은 약 2 시간 이었다. 반응조내에서 과산화수소와 질산농도는 상대적으로 낮지만 에나멜 물질을 제거하기에는 충분한 양이었다. 동선에 피복된 에나멜 물질을 제거하는 것은 황산에 의한 탈수반응과 H₂O₂와 HNO₃에 의한 산화분해반응에 있다.
무균조에 에나멜동선과 황산을 넣고 과산화수소, 질산을 첨가하였다. 동선의 표면 에나멜은 90% 황산에 분해되었으며, 이 용액은 35% 과산화수소 또는 60% HNO₃에 분해되었다. 과산화수소에서 과산화수소 황산의 H₂O와의 비는 적어도 8.8 : 1.0 이었다. 초기에 황산농도에서의 분해는 15분내에 이루어졌으며 박리시간은 약 2 시간 이었다. 반응조내에서 과산화수소와 질산농도는 상대적으로 낮지만 에나멜 물질을 제거하기에는 충분한 양이었다. 동선에 피복된 에나멜 물질을 제거하는 것은 황산에 의한 탈수반응과 H₂O₂와 HNO₃에 의한 산화분해반응에 있다.
목차
요 약
Abstract
1. 서 론
2. 실 험
3. 결과 및 토의
4. 결 론
참고문헌
참고문헌 (9)
참고문헌 신청
M. G. Hill, "Encyclopedia of Science & Technology", 8th Ed., Vol. 10, New York, 1997.
Enamelling 2000, Wire & Cable Technology International, 9, 2000.
M. Windholz, S. Budavari, R. F. Blumetti, E. S. Otterbein, The Merck Index, Merck & Co, Inc. 1995.
L. H. Haplan and B. K. Bergin, "Residues from Wet Processing of Positive Resist", J. Electrochem. Soc. 127, 386, (1980).
W. Beck, F. C. Brunner, P. U. Frasch, Ivancic, F. W. Schwerdt, T. Vogtmann, "Method for Stripping Layes of Organic Material", United States Patent, No. 3, 900, 337, Aug. 19, 1975.
Enamelling 2000, Wire & Cable Technology International, 9, 2000.
M. Windholz, S. Budavari, R. F. Blumetti, E. S. Otterbein, The Merck Index, Merck & Co, Inc. 1995.
L. H. Haplan and B. K. Bergin, "Residues from Wet Processing of Positive Resist", J. Electrochem. Soc. 127, 386, (1980).
W. Beck, F. C. Brunner, P. U. Frasch, Ivancic, F. W. Schwerdt, T. Vogtmann, "Method for Stripping Layes of Organic Material", United States Patent, No. 3, 900, 337, Aug. 19, 1975.
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