Nanometer - Size Writing using 200 keV Electron Beam Lithography

Seong S. Choi; F. Carcenca; C. Vieu

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: Seong S. Choi F. Carcenca C. Vieu

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제22회 학술발표회초록집

발행연도: 2002.2

수록면: 208 - 208 (1page)

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Seong S. Choi

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주요연구분야 자연과학 > 물리학

논문수 5 이용수 43

F. Carcenca

소속기관 한국진공학회

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C. Vieu

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-554-018039898

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