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논문 기본 정보
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- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.4
- 수록면
- 1,344 - 1,348 (5page)
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It is generally known to be difficult to etch a surface of a transparent material such as fused silica by conventional laser ablation in which the surface is simply irradiated with a laser beam, A lot of studies have been done to provide a method capable of efficiently etching transparent materials without defects such as cracks. One of the promising methods or the micromachining of optically transparent materials is laser induced etching.
In this study, micro-drilling of fused silica by laser induced wet etching was conducted. KrF excimer and YAG laser were used as light sources. Acetone solution pyrene and ethanol solution of rhodamine were used as etchant.
In this study, micro-drilling of fused silica by laser induced wet etching was conducted. KrF excimer and YAG laser were used as light sources. Acetone solution pyrene and ethanol solution of rhodamine were used as etchant.
목차
Abstract
1. 서론
2. KrF 레이저를 이용한 실험
3. Nd-YAG 레이저를 이용한 실험
4. 결론
후기
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