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대한전자공학회 전자공학회논문지-TC 전자공학회논문지 TC편 제40권 제10호
발행연도
2003.10
수록면
150 - 158 (9page)

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라인 소스에 의한 빔 패턴 합성 문제에서 소스 분포함수와 빔 패턴 간의 관계는 푸리에 변환쌍으로 표현될 수 있다. 본 연구에서는 원하는 lobe형 빔 패턴을 만족시키는 라인 소스 분포함수를 반복 샘플링을 통한 비선형 역변환법을 사용하여 합성하는 일반적인 방법을 제안한다. 이 방법은 유전 매질에 TE 및 TM 평면파 입사시 원하는 역산란 반사계수를 갖도록 하는 연속적으로 분포된 유전율 합성에 적용될 수 있으며, 임의 반사계수를 갖는 전송선로 합성에도 적용될 수 있는 장점을 가진다. 대역저지 공간 필터 및 분산 특성을 갖는 전송선로 필터에 적용, 분석하므로서 제안한 방법의 타당성을 보인다.

목차

요 약

Abstract

Ⅰ. 서 론

Ⅱ. 역산란 패턴에 대한 적분방정식 도출

Ⅲ. 개선된 푸리에 변환쌍

Ⅳ. 반복 샘플링법을 위한 최적화 과정과 결과 분석

Ⅴ. 결 론

참 고 문 헌

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