AFD법에 의한 광소자용 SiO₂-B₂O₃-P₂O₅ 계 유리박막 제작 ( Fabrication of Phosphor-Borosilicate Glass Thin Films by Aerosol Flame Deposition Method for Optical Devices )

이정우; 문종하; 정형곤; 이형종

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 이정우 문종하 정형곤 이형종

저널정보: 한국통신학회 한국통신학회 기타 간행물 Photonics Conference(1998)

발행연도: 1998.1

수록면: 375 - 376 (2page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

1999

$\textrm{SiO}_2$-$\textrm{B}_2\textrm{O}_3$-CaO-$\textrm{P}_2\textrm{O}_5$계에서 조성이 Aerosol Flame Deposition법에 의해 제조된 유리박막의 열처리 온도와 굴절률에 미치는 영향

이정우 , 정형곤 , 정석종 외 2명 한국재료학회지 1999.01 학술저널

1998

AFD법에 의한 광소자용 SiO₂-B₂O₃-P₂O₅ 계 유리박막 제작 ( Fabrication of Phosphor-Borosilicate Glass Thin Films by Aerosol Flame Deposition Method for Optical Devices )

이정우 , 문종하 , 정형곤 외 1명 한국통신학회 기타 간행물 1998.01 학술대회자료

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논문수 10 이용수 239

정형곤

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이형종

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